選擇合適的多光子聚合光刻膠，要考慮哪些因素

多光子聚合光刻膠（Multiphoton Polymerization Photoresist）是專為飛秒激光三維微納加工設(shè)計的特種光敏材料。多光子聚合光刻膠專為飛秒激光三維微納加工設(shè)計，選擇時需綜合關(guān)鍵性能指標以確保精度、效率和應用適配性。

應用場景‌：

‌生物醫(yī)學‌：微流控芯片、仿生支架制造，避免光引發(fā)劑生物毒性；‌

‌光子器件‌：三維光子晶體、微透鏡陣列加工‌；

‌精密機械‌：元件直寫，支持復雜懸空結(jié)構(gòu)‌。

關(guān)鍵性能指標選擇標準‌：

‌分辨率‌：決定最小特征尺寸（通常需達100nm級別），高分辨率支持制造更精細的結(jié)構(gòu)（如微透鏡或光子晶體）；但需權(quán)衡成本與性能，避免過度投入。‌

‌靈敏度‌：反映對曝光能量的敏感度，高靈敏度可降低激光曝光劑量，提升加工效率；但需注意高靈敏度可能增加環(huán)境敏感度。‌

‌對比度‌：影響圖案邊緣銳利度，高對比度（接近90°側(cè)壁）減少線條模糊，提升結(jié)構(gòu)準確性。‌

‌顯影性能‌：確保未曝光區(qū)域去除，減少殘留物；選擇時應關(guān)注顯影速度與均勻性。‌

‌機械性能‌：包括硬度、韌性和抗拉伸性，防止在涂布或加工中發(fā)生變形或開裂。‌

‌耐化學性與熱穩(wěn)定性‌：耐受腐蝕劑、清洗劑及高溫處理（如烘烤），避免圖形失真；熱穩(wěn)定性對多光子聚合的高能激光環(huán)境尤為重要。‌

‌純度‌：雜質(zhì)含量需嚴格控制在ppb級別，高純度減少微缺陷風險。